臺(tái)式離線光譜干涉測(cè)厚儀FOS介紹

發(fā)布日期：2022-02-18      瀏覽次數(shù)：1184

臺(tái)式離線光譜干涉測(cè)厚儀FOS介紹



適用于光學(xué)薄膜和透明涂膜

模型	FOS
測(cè)量方法	非接觸式/光譜干涉儀
測(cè)量對(duì)象	電子、光學(xué)用透明平滑膜、多層膜
測(cè)量原理	光譜干涉儀

產(chǎn)品特點(diǎn)

• 實(shí)現(xiàn)高測(cè)量重復(fù)性（± 0.01 μm 或更小，取決于對(duì)象和測(cè)量條件）

• 不易受溫度變化的影響

• 可以制造用于研究和檢查的離線型和制造過(guò)程中使用的在線型。

• 反射型允許從薄膜的一側(cè)測(cè)量

• 只能測(cè)量透明涂膜層（取決于測(cè)量條件）

產(chǎn)品規(guī)格

測(cè)量厚度	1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料）
測(cè)量長(zhǎng)度	50-5000 毫米
測(cè)量間距	1 毫米 ~
小顯示值	0.001 微米
電源電壓	AC100 伏 50/60 赫茲
工作溫度限制	5～45℃（測(cè)量時(shí)溫度變化在1℃以?xún)?nèi)）
濕度	35-80%（無(wú)冷凝）
測(cè)量區(qū)域	φ0.6毫米
測(cè)量間隙	約 30 毫米